采用高性能RO膜,两级反渗透系统可去除99.9%以上的溶解盐分,为后续处理提供优质进水。
连续电去离子技术,无需化学再生,连续产水,出水电阻率可达16MΩ.cm以上。
超纯树脂抛光系统,进一步去除微量离子,确保出水电阻率达到18.25MΩ.cm。
254nm和185nm双波长紫外线,杀灭细菌病毒,同时分解有机物,降低TOC含量。
0.01μm超滤膜,有效去除细菌、病毒、胶体等微粒,保证水质的微生物安全。
膜式脱气器去除溶解氧和二氧化碳,防止管道腐蚀,提高水质稳定性。
严格控制各项指标,确保水质稳定可靠
电阻率
TOC含量
颗粒数(≥0.1μm)
细菌含量
| 参数 | 单位 | 半导体用水 | 面板用水 | 光电用水 |
|---|---|---|---|---|
| 电阻率(25℃) | MΩ·cm | ≥18.2 | ≥17.5 | ≥16.0 |
| 总有机碳(TOC) | ppb | ≤1.0 | ≤5.0 | ≤10.0 |
| 颗粒物(≥0.1μm) | 个/ml | ≤1.0 | ≤3.0 | ≤5.0 |
| 硅(Si) | ppb | ≤0.5 | ≤1.0 | ≤3.0 |
| 钠(Na) | ppb | ≤0.1 | ≤0.2 | ≤0.5 |
| 氯(Cl) | ppb | ≤0.1 | ≤0.2 | ≤0.5 |
| 溶解氧(DO) | ppb | ≤5.0 | ≤10.0 | ≤20.0 |
| 细菌总数 | CFU/ml | ≤1.0 | ≤1.0 | ≤10.0 |
注:以上标准仅供参考,具体标准可根据客户需求定制
多级处理,层层把关,确保水质达标
多介质过滤、活性炭过滤
反渗透脱盐
深度脱盐
电去离子
最终纯化
18MΩ·cm超纯水
预处理系统是超纯水处理的第一道工序,主要目的是去除原水中的悬浮物、胶体、有机物等大颗粒杂质,为后续处理创造条件。主要工艺包括:
一级反渗透系统是超纯水处理的核心工艺之一,通过半透膜的选择性透过作用,去除水中的离子、有机物、胶体等杂质。主要特点:
一级反渗透系统通常包括保安过滤器、高压泵、反渗透膜组件、清洗系统等。
混床系统是通过离子交换原理,进一步去除水中的离子,提高水的纯度。混床是阳离子交换树脂和阴离子交换树脂的混合床,具有以下特点:
混床系统通常包括混床罐、再生系统、酸碱储罐等。
二级反渗透系统是在一级反渗透的基础上,进一步提高水质纯度的工艺。主要作用:
二级反渗透系统通常采用低压反渗透膜,能耗更低,水回收率更高。
抛光处理系统是超纯水处理的最后一道工序,用于进一步提高水质纯度,确保水质达到电子级超纯水标准。主要工艺包括:
抛光处理系统通常采用模块化设计,可根据用水点的需求进行定制。
分配系统是将超纯水输送到各用水点的系统,是确保超纯水水质不受二次污染的关键。主要特点:
分配系统通常包括循环泵、热交换器、在线监测仪表、阀门等。
专业设计,稳定可靠,满足高标准需求
采用多重保障措施,确保水质长期稳定达标,满足高标准生产需求。
系统水回收率可达75%-85%,大幅降低运行成本,节约宝贵水资源。
采用高效节能设备和优化工艺,降低能耗30%以上,减少碳排放。
采用先进的PLC控制系统和SCADA监控平台,实现全自动运行和远程监控。
模块化设计,便于维护和升级,降低维护成本,延长设备使用寿命。
根据客户需求和原水水质,提供定制化设计,确保系统最优性能。
广泛应用于高科技产业的生产过程
芯片清洗、蚀刻工艺用水
LCD、OLED面板生产
硅片清洗、电池片制造
电解液配制、电极清洗
我们的超纯水系统已成功应用于多个行业
客户需求:30吨/小时电子级超纯水,水质要求电阻率≥18.2MΩ·cm,TOC≤1ppb。
解决方案:采用"预处理+一级RO+混床+二级RO+抛光处理"工艺。
项目成果:
客户需求:15吨/小时电子级超纯水,水质要求电阻率≥17.5MΩ·cm,TOC≤5ppb。
解决方案:采用"预处理+一级RO+EDI+二级RO+抛光处理"工艺。
项目成果:
从需求分析到运维服务,全程专业支持
深入了解客户需求,分析原水水质,确定处理目标
根据需求和原水水质,设计最优处理工艺和系统方案
按照设计方案,生产制造高品质设备和系统
专业团队现场安装设备,调试系统至最佳状态
系统试运行,验证水质,优化运行参数
系统达标验收,正式交付客户使用
对客户操作人员进行专业培训,确保系统正常运行
提供长期技术支持和维护服务,确保系统稳定运行